天准为掩模生产过程中的测量提供高精度、高重复性系统,适用产品包括但不限于COG和PSM。


针对掩模来料测量,天准提供长距离工作物镜。测量包括掩模版上CD的分布,同时系统提供可见光和紫外光照明,均可用于反射和透射模式。紫外光照明可用于测量最小300nm的特征尺寸,3sigma重复性通常在纳米范围内。

主要特点

Mask CD测量

最大支持14寸掩模以及定制形状

可配置可见光、紫外光,支持穿透和反射光

SECS/GEM

长期维护成本低,稳定可靠

Spector
主要特点

Mask CD测量

最大支持6寸掩模

可配置可见光、紫外光,支持穿透和反射光

SECS/GEM

长期维护成本低,稳定可靠

MT270UV
主要特点

Mask膜厚,CD测量

可配置可见光、紫外光、红外光

SECS/GEM

长期维护成本低,稳定可靠

MT2010 VIS/UV
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